Araştırma&Rapor
Nanometrik Ölçekte 3D Baskı Teknolojisi: Faulhaber NanoOne Örneğinde Değerlendirme
İki-Foton Litografisi, Endüstriyel Uygulamalar ve Hassas Motor Teknolojileri
Bu makalede, nanometrik ölçekte üretim yapabilen iki-foton litografisi (2PL) teknolojisi kapsamlı biçimde ele alınmaktadır. UpNano GmbH’nin geliştirdiği NanoOne platformu üzerinden somutlaştırılan bu teknoloji; çalışma prensipleri, mevcut uygulama alanları ve endüstriyel dönüşüm potansiyeli bakımından incelenmektedir. Makalenin merkezine, 200 nanometrenin altında yatay çözünürlük sunan bu sistemlerin doğru konumlandırılmasında kritik rol oynayan FAULHABER minyatür tahrik motorları alınmakta; ancak tartışma yalnızca bu bileşenle sınırlı kalmayıp nanobaskı ekosisteminin bütününe yayılmaktadır.
Bulgular, 2PL tabanlı nanobaskının tıp, farmasötik, telekomünikasyon ve savunma gibi stratejik sektörlerde köklü dönüşümlere zemin hazırladığını ortaya koymaktadır. Teknolojinin olgunlaşmasında malzeme geliştirme, süreç otomasyon düzeyi ve ölçeklenebilir üretim kapasitesi olmak üzere üç temel kısıt belirleyici nitelik taşımaktadır.
1. Nanometre Ölçeğinin Önemi
Yunanca kökenli ‘nano’ sözcüğü ‘cüce’ anlamına gelmekle birlikte, bilimsel bağlamda tam karşıtı bir gerçeği ifade eder: metrenin milyarda biri. Bu eşiğin altında madde, gözle görülür ölçekte geçerli olan mekanik, optik ve elektriksel yasalara uymaz; kuantum etkileri, yüzey kuvvetleri ve foton-madde etkileşimleri belirleyici hale gelir. Bu özellikler, nanometre ölçeğini hem üretimi son derece güç hem de uygulama değeri olağanüstü yüksek bir alan kılmaktadır.
Geleneksel imalat yöntemleri bu ölçekte yetersiz kalmaktadır: enjeksiyon kalıplama ve frezeleme gibi çıkarmalı süreçler, fiziksel temas gerektirdiğinden mikron altı hassasiyete ulaşmak mümkün değildir. Işık tabanlı litografi yöntemleri ise uzun süredir yarı iletken endüstrisinin temel aracı olmuştur; ancak 2PL, bu yöntemleri katmanlı üretimin kısıtlamalarından kurtararak üç boyutlu özgürlük sağlamaktadır.
Viyana Teknik Üniversitesi’nin spin-off şirketi olan UpNano, bu alanda saha araştırmalarından ticari ürüne uzanan kritik köprüyü kurmuştur. Şirketin geliştirdiği NanoOne platformu, 150 nanometrenin altından 40 milimetreye varan bir ölçek aralığında yapı üretebilmekte; bu esneklik onu hem araştırma hem de endüstriyel üretim açısından eşsiz kılmaktadır.
2. Teknolojik Temel: İki-Foton Litografisi
2.1 Temel Fizik Prensibi
Geleneksel ışık tabanlı 3B baskı yöntemleri —stereolitografi (SLA) ve dijital ışık işleme (DLP) gibi— fotopolimerizasyonu lazer ışınının tüm geçiş yolu boyunca tetiklemektedir. Sonuç olarak yapılar katman katman inşa edilmek zorunda kalır ve bu durum hem çözünürlüğü sınırlar hem de geometrik serbestliği kısıtlar.
İki-foton litografisi, bu kısıtlamayı temelden farklı bir kuantum mekanizmasıyla aşar. Yüksek yoğunluklu, pikosaniye veya femtosaniye aralığında atım yapan bir lazer, malzeme içinde yalnızca odak noktasında yeterli foton yoğunluğu oluşturacak biçimde ayarlanır. Bu noktada iki foton eş zamanlı soğurulur; toplam enerji, tek başına hiçbir fotonun tetikleyemeyeceği polimerizasyon eşiğini aşar. Işının geçtiği diğer tüm bölgeler etkilenmeden kalır.
UpNano CTO’su Peter Gruber’in ifadesiyle: ‘Kontrollü polimerizasyonu gerçekleştirmek için hem zaman hem de uzay boyutunda muazzam bir foton yoğunluğuna ihtiyaç duyuyoruz. Bu nedenle, kritik foton çiftlerini hedefe ulaştırabilmek için çok sayıda ışık parçacığı göndermek zorundayız.’
Bu yöntemin sağladığı en kritik avantaj, odak noktasının malzeme içinde serbestçe hareket ettirilebilmesidir. NanoOne’ın yüksek performanslı optik sistemi, lazer odağını üç boyutlu uzayda yönlendirerek neredeyse sınırsız geometrik karmaşıklıkta yapıların üretilmesine olanak tanır. Katman katman inşa zorunluluğu ortadan kalkar; yapı doğrudan üç boyutlu formunda oluşturulur.
2.2 Çözünürlük Sınırları ve Performans
NanoOne sistemi, yatayda 200 nanometrenin ve dikeyde 550 nanometrenin altında çözünürlük sunmaktadır. Yatay ve dikey eksenler arasındaki bu asimetri, lazer odak bölgesinin —’voksel’ olarak adlandırılır— elipsoidal geometrisinden kaynaklanmaktadır. Bu geometri, odaklama optiklerinin nümerik açıklığıyla doğrudan ilişkilidir.
| Parametre | Değer |
| Yatay çözünürlük | < 200 nm |
| Dikey çözünürlük | < 550 nm |
| Yapı ölçek aralığı | < 150 nm – > 40 mm yükseklik |
| Verim | > 450 mm³/saat |
| Lens seçeneği | 4 farklı büyütme/çözünürlük kombinasyonu |
| Substrat konumlama doğruluğu | Sub-mikrometre (< 1 µm) |
Sistemin saatte 450 mm³ üzerindeki hacimsel verimi, yalnızca araştırma amaçlı değil yarı-sanayi ölçeğinde üretim için de kullanılabilirliğini göstermektedir. Farklı çözünürlük-hız dengelerini optimize eden dört lens seçeneği, tek bir platformun birbirinden çok farklı uygulama ihtiyaçlarını karşılamasını sağlamaktadır.
2.3 Malzeme Ekosistemi
2PL sürecinde kullanılan temel malzeme sınıfı, negatif tonda fotodirençlerdir (fotopolimer reçineler). Bu malzemeler UV’ye duyarlı fotobaşlatıcı moleküller içerir; iki-foton soğurumu bu başlatıcıları aktive ederek çapraz bağlı polimer zincirleri oluşturur. Geliştirme aşamasında polimerizasyona uğramamış bölgeler çözücüyle uzaklaştırılır; geriye katılaşmış üç boyutlu yapı kalır.
UpNano’nun özellikle öne çıkan çözümü, biyomalzeme uyumlu reçineler sunmasıdır. Bu formulasyonlar canlı hücreleri kapsülleyebilmekte; yapı oluşturulurken hücreler polimerizasyon sürecinin dışında kalan boşluklarda canlılığını korumaktadır. Bu özellik, in vitro doku mühendisliği ve organoid araştırmaları açısından benzersiz bir imkân sunmaktadır.
3. Hassas Konumlandırma: Nanobaskının Mekatronik Omurgası
3.1 Substrat Hizalama Problemi
2PL’nin teorik çözünürlük kapasitesinin pratiğe aktarılması, lazer optiğinin yanı sıra mekanik konumlandırma sistemine kritik ölçüde bağlıdır. Substratın baskı öncesinde hizasının dışında olması —ki bu, fiziksel yükleme sürecinde kaçınılmazdır— lazer odağının malzeme yüzeyinden sapmasına ve dolayısıyla kusurlu yapılara yol açar.
NanoOne’ın bu sorunu çözmek için geliştirdiği bileşen ‘Otomatik Eğim Düzeltme Aparatı’dır (Automatic Tilt Correction Insert). Bu sistem, substraı x, y ve z eksenlerinde bağımsız olarak hareket ettirebilen üç eksenli bir mekanizmadır. Amaç, baskı yüzeyini lazer optik eksenine mükemmel biçimde dik konuma getirmek ve sub-mikrometre düzeyinde düzlemsellik elde etmektir.
Peter Gruber, UpNano Eş Kurucusu ve CTO: ‘Sub-mikrometre aralığında düzlemsellik elde ediyoruz. Bu sayede lazer optiğinin hassasiyeti gerçekten baskı malzemesine aktarılıyor.’
3.2 FAULHABER 1512 SR IE2-8 Serisi: Tasarım Tercihleri
Üç eksenli konumlandırma mekanizmasının tahrik elemanı olarak FAULHABER 1512 SR IE2-8 serisi redüktörlü DC motorlar seçilmiştir. Bu tercih, birkaç temel mühendislik gereksiniminin kesişimini yansıtmaktadır.
İlk gereksinim boyutsal kısıttır. NanoOne’ın kompakt gövdesi, tahrik sisteminin çok küçük bir hacme sığmasını zorunlu kılar. 15 mm çap ve 14,3 mm uzunluğuyla 1512 serisi, yüksek moment çıkışını son derece küçük bir formda sunar.
İkinci gereksinim moment yoğunluğudur. Nadir toprak element mıknatısları, rotor ağırlığına oranla olağanüstü yüksek manyetik akı sağlamaktadır. Değerli metal komütasyonu (SR) ise düşük hız aralıklarında tutarlı moment üretimini mümkün kılarken parazit kaynağı olabilecek elektrik ark oluşumunu en aza indirir.
Üçüncü gereksinim geri bildirim bütünleştirmesidir. Entegre optik enkoderin (IE2-8) bulunması, kapalı döngü konum kontrolünü doğrudan motor gövdesi içinde gerçekleştirmektedir. UpNano’nun kendi tasarımı olmayan bu entegrasyon, FAULHABER mühendisleri tarafından önerilmiş ve hizalama hassasiyetini somut biçimde artırmıştır.
| Motor Özelliği | Teknik Değer |
| Seri | FAULHABER 1512 … SR IE2-8 |
| Çap | 15 mm |
| Uzunluk | 14,3 mm |
| Komütasyon | Değerli metal (Precious Metal) |
| Sarım teknolojisi | Düz, serbest taşıyıcılı bakır sarım (3 katmanlı) |
| Mıknatıs tipi | Nadir toprak element (Rare Earth) |
| Geri bildirim | Entegre optik enkoder (IE2-8) |
| Uygulama | X, Y, Z ekseni substrat konumlandırma |
3.3 Sistem Yalıtımı ve Titreşim Yönetimi
Mikrometre altı hassasiyetlerin elde edilebilmesi için mekanik konumlandırma sistemi, çevresel titreşimlerden ve ısıl genleşmelerden yalıtılmış olmalıdır. NanoOne tasarımında ilgili bileşenler, dış gövdeden mekanik olarak ayrıştırılmıştır. Bu sayede sistem herhangi bir kararlı masa yüzeyine yerleştirilebilir; özel titreşim sönümleme platformlarına gerek kalmaz. Bu tercih, hem maliyeti düşürmekte hem de sistemin laboratuvar dışı ortamlara taşınabilirliğini artırmaktadır.
4. Uygulama Alanları ve Sektörel Analiz
4.1 Tıbbi Teknoloji ve Doku Mühendisliği
Nanobaskının en yüksek katma değer ürettiği alan tıbbi teknolojidir. Hücre iskeleti yapıları, organik dokunun karmaşık geometrisini taklit eden üç boyutlu kafes sistemleridir. Konvansiyonel üretim yöntemleriyle bu geometrileri submikrometre hassasiyetle oluşturmak mümkün değildir.
2PL ile üretilen iskelet yapıları, doku mühendisliğinde birkaç kritik işlev üstlenmektedir: hücre tutunma alanı sağlamak, mekanik destek sunmak ve biyokimyasal sinyalleri mekânsal olarak yönlendirmek. Biyomalzeme uyumlu reçinelerle yapılan baskılarda canlı hücreler doğrudan gömülebilmektedir. Bu özellik, üç boyutlu hücre kültürü modellerini in vitro deney platformlarına dönüştürmektedir.
Mikro-endoskop lensleri, nanobaskının klinik cihaz alanındaki en olgun uygulamalarından birini oluşturmaktadır. Tek bir cam fiberin ucuna doğrudan baskılanan aspherik lensler, geleneksel optik bileşenlerin yerleştirilemeyeceği çaplarda görüntüleme imkânı sunmaktadır. Minimal invaziv girişimler ve hücre düzeyinde in vivo görüntüleme bu uygulamanın öncelikli hedefleridir.
4.2 Farmasötik Araştırma ve Hayvan Deneyi Alternatifleri
İlaç geliştirme sürecinde hayvan modellerinin yerini almaya aday ‘organ-on-chip’ platformları, nanobaskının stratejik öneme sahip olduğu bir diğer alandır. İnsan doku mimarisini taklit eden mikroyapılar, ilaç adaylarının hücresel düzeyde test edilmesine olanak tanımaktadır. Bu yaklaşım, hayvan deneylerini azaltma yönünde uluslararası düzenleyici baskıyla da örtüşmektedir.
UpNano’nun müşterilerinin büyük çoğunluğunun ne ürettiğini kamuoyuyla paylaşmaması, rekabetçi gizlilik açısından endüstrinin bu alandaki yatırımının boyutlarını yansıtmaktadır. Açıklanan nadir uygulamalar arasında yumurta hücreleri üzerinde çalışılan in vitro fertilizasyon araçları yer almaktadır.
4.3 Fotonik ve Telekomünikasyon
Cam fiberlerin uçlarına baskılanan lensler, fiber-to-fiber bağlantılarında ışık toplama etkinliğini artırmaktadır. Bu uygulama, 5G ve fiber optik altyapı yatırımlarının hızlandığı günümüzde kritik bir konum taşımaktadır. Mevcut yöntemlerle yapıştırma veya mekanik montaj gerektiren bileşenler, doğrudan fiber uç yüzeyine baskılanarak üretim basamaklarını azaltmakta ve konumlandırma hatalarını ortadan kaldırmaktadır.
Mikrofluidik platformlara entegre edilen 3B baskılı yapılar, bu alanda da genişleyen bir uygulama alanı sunmaktadır. Mevcut mikrofluidik çiplerin içine ek yapılar baskılamak, çiplerin işlevselliğini saha koşullarında genişletme imkânı sağlamaktadır.
4.4 Gelişmekte Olan Uygulama Alanları
Tam işlevli, hareketli parçaları olan mikro rulman yatakları nanobaskıyla üretilmiştir. Bu tür yapılar, MEMS (Mikro-Elektro-Mekanik Sistemler) geliştirmede prototipleme maliyetlerini dramatik ölçüde düşürmektedir. Mikro-enerji hasadı, nano-uydu yapısal bileşenleri ve özelleştirilmiş ilaç salım sistemleri için mikrokapsüller, ufuktaki uygulamalar arasındadır.
5. Karşılaştırmalı Analiz: 2PL ve Rakip Teknolojiler
Nanometre ölçeğinde üretim teknolojileri arasındaki karşılaştırma, her yöntemin güçlü yanlarını ve kısıtlarını belirginleştirmektedir.
| Teknoloji | Çözünürlük / Kısıtlar |
| İki-foton litografisi (2PL) | < 200 nm; 3B özgürlük; yavaş alan tarama |
| Sterotolitografi (SLA) | ~25-50 µm; katman bazlı; hız avantajlı |
| Elektron Işını Litografisi (EBL) | < 10 nm; sadece 2B; vakum gerektirir |
| Nanoimprint Litografisi (NIL) | < 10 nm; kalıp gerektirir; 2B |
| Inkjet tabanlı nanobaskı | > 1 µm; hızlı; malzeme sınırlı |
| Foküslenmiş İyon Işını (FIB) | ~5 nm; yıkıcı; çok yavaş |
2PL’nin belirleyici rekabet avantajı, yüksek çözünürlüğü gerçek üç boyutlu özgürlükle birleştiren tek yöntem olmasıdır. Elektron ışını litografisi benzer çözünürlükler sunmakla birlikte vakum ortamı gerektirmekte ve iki boyutla sınırlı kalmaktadır. Nanoimprint ise yüksek çözünürlük sunsa da her yeni geometri için özel kalıp gerektirmekte; bu durum esnek prototiplemeyi ekonomik açıdan mümkün kılmamaktadır.
Öte yandan 2PL’nin temel sınırlaması verimliliktir. Alan bazlı tarama yaklaşımı, yüksek verimli paralel üretim yöntemleriyle kıyaslandığında daha yavaş kalmaktadır. UpNano’nun 450 mm³/saat verimi bu kısıtı önemli ölçüde azaltmış olmakla birlikte, yüksek hacimli sanayi üretimi için ek iyileştirmeler gerekmektedir.
6. Minyatür Motor Teknolojilerinin Nanoteknolojideki Rolü
6.1 Hassas Uygulamalarda Tahrik Sistemleri
Nanoteknoloji uygulamalarında hareket ve konumlandırma sistemleri, son ürünün kalitesini doğrudan belirleyen kritik altyapıdır. FAULHABER örneği, bu gerçeği somutlaştıran bir vaka çalışması niteliği taşımaktadır. Bununla birlikte, hassas konumlandırma ihtiyacı yalnızca nanobaskıyla sınırlı değildir; nano ölçekli karakterizasyon araçları (AFM, SEM), nano-uydu yönelim sistemleri ve küçük cerrahi robotlar da benzer motor gereksinimlerine sahiptir.
Değerli metal komütasyonu (SR), düşük hız aralığında düzgün moment sağladığından hassas konumlandırma uygulamaları için standart bir tercih haline gelmiştir. Fırçalı motor tasarımlarında karşılaşılan ark oluşumu ve moment dalgalanması, komütatör-fırça arayüzünün titizlikle mühendislenmesiyle önemli ölçüde azaltılabilmektedir. Nadir toprak mıknatıslar (NdFeB), hacme oranla en yüksek manyetik akı yoğunluğunu sağlamakta; bu özellik motor formunu küçültürken performanstan ödün vermemeyi mümkün kılmaktadır.
6.2 Entegre Enkoder: Kapalı Döngü Kontrolün Önemi
Açık döngü tahrik sistemleri, yük değişimlerine karşı hassas değildir; uygulanan adım sayısı konumu belirler ancak gerçek konum geri bildirim olmaksızın doğrulanamaz. Nanobaskı gibi sub-mikrometre hassasiyetin zorunlu olduğu uygulamalarda bu durum kabul edilemez bir belirsizlik kaynağıdır.
Motor gövdesine entegre edilen optik enkoder, gerçek millipozisyon bilgisini kontrol sistemine sürekli olarak iletmektedir. Bu yapı, termal genleşmeden, substrat ağırlık değişimlerinden veya mekanik esneklikten kaynaklanan konumsal sapmalar tespit edildiğinde otomatik düzeltmeye olanak tanır. UpNano vakasında FAULHABER’in enkoder entegrasyonunu önermesi, tedarikçi ile müşteri arasındaki mühendislik iş birliğinin son ürün kalitesine yaptığı katkıyı örneklemektedir.
7. Tartışma: Kısıtlar, Fırsatlar ve Gelecek Yönelimler
7.1 Teknolojik Kısıtlar
2PL teknolojisinin yaygınlaşmasının önündeki en önemli engellerden ilki malzeme çeşitliliğidir. Mevcut fotopolimer reçineleri belirli mekanik ve termal özelliklere sahipken, metal, seramik veya yarı iletken yapıların doğrudan nanobaskısı hâlâ araştırma aşamasındadır. Dolaylı nanobaskı yaklaşımları, polimer iskelet baskılandıktan sonra metalle kaplandığı hibrit yöntemler, bu boşluğu kısmen doldurmaktadır.
İkinci kısıt süreç otomasyonudur. NanoOne gibi sistemler yarı otomatik olsa da substrat hazırlama, baskı sonrası geliştirme ve kalite kontrolü hâlâ insan müdahalesi gerektirmektedir. Bu durum enerji ve işçilik maliyetleri bakımından seri üretime geçişi zorlaştırmaktadır.
Üçüncü kısıt ölçeklemedir. Mevcut sistemler laboratuvar ve küçük seri üretim için optimize edilmiştir. Büyük ölçekli paralel baskı kapasitesi sağlamak, ya birden fazla sistemin eşgüdümlü çalıştırılmasını ya da paralel lazer kafası tasarımlarını gerektirmektedir. Bu yatırım, 2PL’nin rekabetçi olduğu niş alanlar dışında maliyet yapısını zorlamaktadır.
7.2 Gelecek Araştırma Yönelimleri
Lazer kaynakları alanında fiber lazerler ve katı hal lazerleri, femtosaniye atım üretiminde geleneksel Ti:Sapphire lazerlerine kıyasla belirgin maliyet avantajı sunmaktadır. Bu geçiş, sistem toplam maliyetini düşürürken bakım gereksinimini de azaltmaktadır.
Yapay zeka destekli süreç optimizasyonu giderek daha kritik bir alan haline gelmektedir. Lazer gücü, tarama hızı ve odak geometrisi arasındaki karmaşık etkileşim, geleneksel parametrik optimizasyona dirençlidir. Makine öğrenmesi tabanlı yaklaşımlar, bu çok değişkenli uzayda insan mühendisliğinin ulaşamayacağı optimum noktaları keşfetmektedir.
Biyobaskı alanında canlı hücre içeren yapıların üretim sürecinde canlılık oranlarını artırmak, reçine biyouyumluluğundan başlayarak baskı sonrası kültür koşullarına uzanan geniş bir araştırma gündemini kapsamaktadır. Bu alandaki ilerlemeler, ilaç geliştirmede hayvan modellerinden insan hücreli platformlara geçişi hızlandırabilir.
7.3 Endüstriyel Ekosistem ve Tedarik Zinciri
Nanobaskı sistemlerinin değer zinciri birbirine sıkı sıkıya bağlı birkaç katmandan oluşmaktadır: lazer kaynakları, optik sistemler, hassas tahrik ve konumlandırma, kontrol elektroniği ve fotopolimer reçineler. Bu katmanların her birindeki yetkinlik nihai ürün kalitesine doğrudan yansımaktadır. FAULHABER vakasının gösterdiği üzere, alt bileşen seçimi salt performans parametrelerine bakılarak değil, sistem bütünlüğü çerçevesinde yapılmalıdır.
Tedarik zinciri güvenilirliği bu alanda özellikle stratejik bir boyut taşımaktadır. Nadir toprak element mıknatısları, kritik mineral bağımlılığı tartışmalarının merkezindedir. Tedarikçi çeşitlendirmesi ve malzeme ikamesi üzerine yürütülen araştırmalar, sektörün uzun vadeli dirençliliği açısından öncelikli gündem maddelerinden birini oluşturmaktadır.
8. Sonuç
Nanometrik ölçekte 3B baskı teknolojisi, on yıl öncesine kadar yalnızca araştırma laboratuvarlarında mümkün olan üretim kapasitelerini endüstriyel kullanıma açmaktadır. UpNano’nun NanoOne platformu, 2PL’nin teorik potansiyelini somut bir ürüne dönüştürmede önemli bir dönüm noktasını temsil etmektedir.
Bu çalışmada ortaya konulan temel bulgular şu şekilde özetlenebilir: 2PL, yüksek çözünürlüklü gerçek üç boyutlu yapı üretiminde rakipsiz bir yöntemdir. Ancak teknolojinin tam potansiyeline ulaşması; malzeme geliştirme, otomasyon ve ölçekleme boyutlarındaki kısıtların sistematik biçimde aşılmasına bağlıdır. Hassas mekanik konumlandırma, lazer optik kalitesiyle eşit ağırlıkta bir sistem bileşenidir; FAULHABER minyatür redüktörlü motorlarının NanoOne’daki rolü bu gerçeği doğrulamaktadır.
Tıp, ilaç, fotonik ve savunma sektörleri başta olmak üzere stratejik öneme sahip uygulama alanlarındaki talep, önümüzdeki on yılda nanobaskı ekosistemini hızla büyütecektir. Bu büyümeden faydalanabilmek için tedarikçi konumundaki firmaların, yalnızca teknik yetkinlik değil, sistem düzeyinde mühendislik anlayışı ve müşteri uygulamalarına özgü çözüm geliştirme kapasitesi sunması gerekmektedir.
Kaynakça ve İleri Okuma
- UpNano GmbH, ‘NanoOne Technical Specifications’, ürün belgesi, 2025.
- Fischer, J., Wegener, M. ‘Three-dimensional optical laser lithography beyond the diffraction limit’, Laser & Photonics Reviews, 2013.
- FAULHABER Group, ‘1512 SR IE2-8 Serisi Teknik Katalog’, 2024.
- Jonušauskas, L. et al. ‘Optically Clear and Resilient Free-Form μ-Optics 3D-Printed via Ultrafast Laser Lithography’, Materials, 2019.
- Raimondi, M.T. et al. ‘Three-dimensional structural niches engineered via two-photon laser polymerization’, Acta Biomaterialia, 2013.
- Malinauskas, M. et al. ‘Ultrafast laser nanostructuring of photopolymers’, Progress in Quantum Electronics, 2016.
- CCEE Teknoloji Araştırma Birimi, kaynak belge: FAULHABER GROUP – 3D PRINTING endüstri notu, 2025.


